国鲸合创申请自修复抗刮擦光学薄膜专利

国家知识产权局信息显示，国鲸合创（青岛）科技有限公司申请一项名为“一种自修复抗刮擦光学薄膜及其制备方法和在显示器件中的应用”的专利，公开号CN122080475A，申请日期为2026年2月。

专利摘要显示，本发明属于自修复材料技术领域，具体涉及一种自修复抗刮擦光学薄膜及其制备方法和在显示器件中的应用。通过合理设置基材层、自修复功能层和抗刮擦层的厚度及材料组成，使各层之间协同作用，可同时实现自修复性能、抗刮擦性能和光学性能。自修复功能层采用聚氨酯弹性体与聚己内酯二醇复配，并加入纳米二氧化硅，不仅提高了自修复性能和机械性能，还增强了自修复效率；抗刮擦层采用有机硅树脂与纳米氮化硅结合，在保证抗刮擦性能的同时，避免了对光学性能的影响。