万华化学取得异氰酸酯相关专利，提升装置运行稳性并减少光气泄漏风险

2026年7月18日消息，国家知识产权局信息显示，万华化学集团股份有限公司申请一项名为“一种气相光气化反应制备异氰酸酯的方法”的专利，授权公告号CN117986159B，授权公告日为2026年7月17日。申请公布号为CN117986159A，申请号为CN202211366619.5，申请公布日期为2026年7月17日，申请日期为2022年11月1日，发明人韩金平、温志浩、崔学磊、李兴华、郝超、吕振高、李建峰、尚永华、黎源，分类号C07C263/10、C07C263/18、C07C265/14。

专利摘要显示，本发明公开一种气相光气化反应制备异氰酸酯的方法。包括以下步骤：a）加热包含有机伯胺的流股，使其气化；b）加热包含光气的流股，使其气化；c）上述步骤a）及b）中的气化后的流股接触反应，获得目标异氰酸酯产物；步骤a）中原料有机伯胺的H值含量为20ppm~3000ppm，优选150ppm~2000ppm。本发明提供的方法能够显著提高气相光气化装置的稳定运行周期，极大减少装置检修次数及其带来的光气泄露等安全风险。