江丰电子获得发明专利授权：“一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用”

近日，江丰电子新获得一项发明专利授权，专利名为“一种化学机械抛光垫及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202210813035.1，授权日为2026年8月7日。

专利摘要：本发明公开了一种化学机械抛光垫的制备方法，通过聚氨酯浆料涂布于透明薄膜卷材上，通过凝结成膜法获得多孔聚氨酯膜，再经碱溶液降解其中的含酯键的聚合物粉末以形成占据式的微孔洞，最终经后处理制备得到化学机械抛光垫。通过将含酯键的聚合物、极性溶剂、阴离子物质、聚氨酯树脂混合得到聚氨酯浆料涂布于基材上，在凝结成膜的过程中，水致相分离形成水滴形孔的同时含酯键的聚合物在聚氨酯内部占据了空间一起凝固定型，再通过碱溶液浸泡降解此粉末，洗脱后就可以在聚氨酯固体相内形成微孔，使抛光垫的微观力学结构更加均衡，对待抛光物的支撑力都更加均匀，抛光液可以在这些微孔洞中相互流通，使抛光液的供给也更加均匀稳定。